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智慧財產及商業法院行政判決
111年度行專訴字第75號
民國112年6月15日辯論終結
原告友輝光電股份有限公司
代表人吳東昇
訴訟代理人鄧民立專利師
被告經濟部智慧財產局
代表人廖承威
訴訟代理人周志浩
上列當事人間因發明專利申請事件，原告不服經濟部中華民國111年11月2日經訴字第11106308260號訴願決定，提起行政訴訟，本院判決如下：
主文
訴願決定及原處分均撤銷。
被告就民國111年6月23日(111)智專三㈤01182字第11120614010號「不予專利」專利再審查核駁審定案，應依本判決之見解另為處分。
原告其餘之訴駁回。
訴訟費用由被告負擔二分之一，餘由原告負擔。
事實及理由
壹、程序事項：
一、本件被告代表人原為洪淑敏，於民國112年3月20日變更為廖承威，並於同年5月8日具狀聲明承受訴訟(本院卷第131至138頁），核無不合，應予准許。
二、原告起訴聲明原為：「原處分及訴願決定均撤銷」（見本院
卷第15頁），嗣於112年5月8日當庭變更為「原處分及訴願決定均撤銷」、「被告應就第10713185號『具有在其上的複合結構的光學片材及其製造方法』發明專利申請案（下稱本件專利申請案）作成准予專利之審定。」，被告無異議，而為本案之言詞辯論（見本院卷第195至196頁），依行政訴訟法第111條第2項規定，自應允許。
貳、實體事項：
一、事實概要：
原告前於105年9月14日以「具有在其上的複合結構的光學片材及其製造方法」（嗣修正為「具有在其上的複合結構的光學片材」）向被告申請發明專利，並以西元2016年5月16日申請之美國第62/336,761號專利、2016年7月13日申請之美國第62/361,519號專利、2016年7月19日申請之美國第15/213,420號專利及2016年8月25日申請之美國第15/247,901號專利主張優先權，經被告編為第105130007號審查，並於107年8月10日核准專利。嗣原告於107年9月10日申請分割出本件第107131785號「具有在其上的複合結構的光學片材及其製造方法」發明專利案(即本件專利申請案)，復於109年1月30日提出申請專利範圍及說明書修正本。經被告審查，不予專利。原告不服，申請再審查，並於109年11月9日提出申請專利範圍修正本，復經被告核認前揭修正本有違當時專利法第43條第2項規定，以111年2月10日（111）智專三(五）01182字第11120124740號審查意見通知函通知原告限期提出修正或申復。原告雖於111年6月13日提出申請專利範圍修正本，惟被告認本件專利申請案修正後仍有違前揭專利法規定，爰以111年6月23日（111）智專三（五）01182字第11120614010號專利再審查核駁審定書為「不予專利」之處分。原告不服，提起訴願，復遭經濟部為訴願駁回之決定，原告仍未甘服，遂依法提起本件行政訴訟。
二、原告聲明請求撤銷原處分與訴願決定，被告應就本件專利申請案作成准予專利之審定，並主張：
㈠本件專利申請案請求項1沒有超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，符合專利法第43條第2項規定:
⒈本件專利申請案於107年9月10日送件申請之說明書第23段中有下列描述：藉由本發明製程所形成的複合結構212具有平均粗糙度(Ra)範圍和霧度範圍的較佳化組合，此較佳化組合的特徵不同於藉由單一模具切割製程所形成的結構而具有較佳抗牛頓環表現。第5A圖與第5B圖說明對應於複數個第一凸形狀和複數個第二形狀的結合的真實複合結構，第6圖說明複合結構可消除牛頓環(特別是反射式牛頓環)。
⒉本件專利申請案圖5A已明確展示兩個或兩個以上之凸形狀，且該兩個或兩個以上之凸形狀中的每一個凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣。第一凹形狀的複數個凸形狀中的每一個凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣之內容可由本件專利申請案圖5A以及107年9月10日送件申請之說明書第23段毫無岐異得知，因此，本件專利申請案請求項1沒有超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，符合專利法第43條第2項規定。
⒊本件專利申請案請求項1並未主張整個基板上的每一個凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣。就算本件專利申請案之圖5A不是整個基板之全部影像，基板之邊緣位於本件專利申請案之圖5A之邊緣之外側，圖5A之複合結構中的複數個凸形狀中的每一個凸形狀也必然是未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣。因此，本領域習知技藝者而言，本件專利申請案請求項1記載之「其中該複合結構中的對應於該複數個第一凹形狀的複數個凸形狀中的每一個凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣」之內容可由本件專利申請案圖5A以及107年9月10日送件申請之說明書第23段毫無歧異得知。是以，本件專利申請案請求項1沒有超出申請時原說明書或圖示所揭露之範圍，符合專利法第43條第2項。同理，本件專利申請案請求項2、3、4、5記載之「其中該複合結構中的對應於該複數個第一凹形狀的複數個凸形狀中的每一個凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣」之內容沒有超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，符合專利法第43條第2項規定。
㈡原告於111年6月13日提出申請專利範圍修正本中之修正後請求項4有新增「且該些第二凸形狀是由噴砂所形成」內容，而該內容是第一次出現於修正本中，被告理應通知原告限期提出申復說明或修正，而非直接作成不予專利之處分。
三、被告聲明求為判決原告之訴駁回，並抗辯：
㈠本件專利申請案圖5A係呈現樣品部分表面之影像圖，尚難謂必然為該複合結構或該基板之整體，該圖5A之影像可能隱含多個意義，本件專利申請案申請時説明書及申請專利範圍未特別論及凸形狀是否於基板邊緣間延伸之相關内容，實難認定圖5A之影像係明確定義了該複合結構必然具備任一個凸形狀未從基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣之技術特徵而沒有隱含其他事項，自難認該修正之內容係由本件專利申請案申請時所提說明書等文件能直接且無歧異得知的。再者，由於本件專利申請案圖5A為樣品部分表面影像圖且並未呈現基板表面（包括複合結構）之全貌，則在其觀察範圍以外的複合結構是否存在其他凸形狀、以及該等凸形狀是否於基板之邊緣間延伸乃至其分布情況(如是否必定不存在任何從基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣之凸形狀)等倶有未明，發明所屬技術領域中具有通常知識者殊難憑此認定該複合結構（包括圖5A觀察範圍以外之部分）中必定不可包含該修正所界定者以外的情況，遑論能直接且無歧異得知請求項1至5之修正内容，因此，應認修正後之內容包含了無法由本件專利申請案申請時所提說明書等文件直接且無歧異得知的事項，該修正超出申請時說明書、申請專利範圍或圖式所揭露之範圍。
㈡本件專利申請案111年6月13日申請專利範圍修正本中，其請求項4尚有新增「且該些第二凸形狀是由噴砂所形成」之技術特徵。惟複合結構212所具備之形狀（包括本項所述之第一凸形狀與第二凸形狀）皆非由噴砂所形成，而係由壓印所形成，只是壓印時使用的模具201具備由噴砂所形成之第二形狀202Y，因此請求項4之修正已超出本件專利申請案申請時說明書、申請專利範圍或圖式所揭露之範圍。
㈢本件專利申請案111年6月13日修正本部分内容已見於109年11月9日修正本，且經被告以111年2月10日審査意見通知函通知109年11月9日修正本(因該部分內容修正超出而)有違反專利法第43條第2項之情形；惟原告所提出之111年6月13日修正本未將該部分內容刪除，僅再新增「中的每一個凸形狀」等文字，仍有審査意見通知函所指違反專利法第43條第2項之情事，則被告基於111年6月13日修正本仍有相同不予專利事由，未再通知原告限期提出申復說明或修正，逕為不予專利之審定，當無違誤。況依原處分關於「修正後請求項4尚有新增…亦已超出本案申請時說明書、申請專利範圍或圖式所揭露之範圍，併予指明」之敘述可知，原處分中關於修正後請求項4新增「且該些第二凸形狀是由噴砂所形成」等內容之修正超出係併予指明，亦即縱不考量前述請求項4新增內容修正超出之情事，也無礙於原處分關於前述仍有審査意見通知函所指違反專利法第43條第2項情事之判斷，自無再次發函通知原告限期提出申復說明或修正之必要。
四、本件法官依行政訴訟法第132條準用民事訴訟法第270條之1
第1項第3款、第3項規定，整理兩造不爭執事項並協議簡化
爭點如下：
㈠不爭執事項：
如事實及理由欄貳、一、事實概要所示。
㈡本件爭點：
本件專利申請案111年6月13日申請專利範圍修正本是否超出
申請時說明書、申請專利範圍或圖式所揭露之範圍?
五、得心證之理由：
㈠本件專利申請案之技術內容:
⒈本件專利申請案所欲解決問題:
第1A圖例示稜鏡片10的背部結構11的剖面示意圖，其中稜鏡
片10的背部結構11係藉由快速工具伺服製程所形成。藉由快
速工具伺服製程，稜鏡片10的背部結構11的各個凸塊(conve
xlump)12係為平滑彎曲，因此輝度損失較低；然而，因為凸
塊12密度較小，牛頓環(特別是反射式牛頓環)無法完全消除
。藉由快速工具伺服製程所形成的凸塊12的霧度約為10%。
因為藉由快速工具伺服製程所形成的凸塊12較為規則，容易
產生牛頓環。為了要消除牛頓環，表面霧度必須增加至不小
於30%；然而，霧度大大增加而輝度下降。第1B圖例示稜鏡
片20的背部結構21的剖面示意圖，其中稜鏡片20的背部結構
21係藉由噴砂製程所形成。藉由噴砂製程，凸塊22密度較大
以具有較佳消除牛頓環的能力；然而，因為稜鏡片20的背部
結構21的表面較為粗糙，霧度增加而輝度大大下降(參本件
專利申請案說明書【先前技術】第【0004】至【0005】段)
。
⒉本件專利申請案解決問題之技術手段:
本件專利申請案提出光學片材和製造光學片材的方法，其具
有較佳的抗牛頓環表現(特別是消除反射式牛頓環)和較佳的輝度表現。在一個實施例中，本發明揭露形成一種光學片材的方法，該方法包含：提供一模具，其中該模具具有一第一表面；在該模具的該第一表面上形成複數個第一凹形狀，以使該模具的該第一表面改變成該模具的一第二表面；在該些第一凹形狀上形成複數個第二形狀，以使該模具的該第二表面改變成該模具的一第三表面；使用該模具的該第三表面壓印一基板上的一膜以形成一複合結構，其中該複合結構對應於該些第一凹形狀和該些第二形狀的結合(參本件專利申請案說明書【發明內容】【0007】至【0008】段)。
⒊本件專利申請案對照先前技術之功效:
藉由本件專利申請案製程所形成的複合結構212具有平均粗糙度(Ra)範圍和霧度範圍的較佳化組合，此較佳化組合的特徵不同於藉由單一模具切割製程所形成的結構而具有較佳抗牛頓環表現(參本件專利申請案說明書第9頁倒數第5至第3行)。
⒋本件專利申請案主要圖式如本判決附圖所示。
⒌本件專利申請案申請專利範圍分析:
本件專利申請案111年6月13日修正申請專利範圍請求項1至
5，內容如下：
請求項1：一種形成光學片材的方法，包含：提供一模具，
其中該模具具有一第一表面；使用堅硬工具刺穿
該模具的該第一表面以在該模具的該第一表面上
形成複數個第一凹形狀，以使該模具的該第一表
面改變成該模具的一第二表面；在該些第一凹形
狀上形成複數個第二形狀，以使該模具的該第二
表面改變成該模具的一第三表面；使用該模具的
該第三表面壓印一基板上的一膜以形成一複合結
構，其中該複合結構對應於該些第一凹形狀和該
些第二形狀的結合，其中該複合結構中的對應於
該複數個第一凹形狀的複數個凸形狀中的每一個
凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊
緣。
請求項2：一種形成光學片材的方法，包含：提供一模具，
其中該模具具有一第一表面；使用堅硬工具刺穿
該模具的該第一表面以在該模具的該第一表面上
形成複數個第一凹形狀，以使該模具的該第一表
面改變成該模具的一第二表面，其中任兩個相鄰
的該第一凹形狀互相重疊；在該些第一凹形狀上
形成複數個第二形狀，以使該模具的該第二表面
改變成該模具的一第三表面；使用該模具的該第
三表面壓印一基板上的一膜以形成一複合結構，
其中該複合結構對應於該些第一凹形狀和該些第
二形狀的結合，其中該複合結構中的對應於該複
數個第一凹形狀的複數個凸形狀中的每一個凸形
狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣。
請求項3：一種光學片材，包含：一基板，具有一第一表面
和相對於該第一表面的一第二表面；以及一膜，
具有一第三表面和相對於該第三表面的一第四表
面，其中該膜的該第三表面在該基板的該第一表
面上且該膜的該第四表面包含一結構，其中該結
構對應於複數個第一凸形狀和複數個第二形狀的
結合，其中該些第二形狀係疊加於該些第一凸形
狀上，其中該複數個第一凸形狀中的每一個凸形
狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊緣，
其中任兩個相鄰的該第一凸形狀互相重疊。
請求項4：一種光學片材，包含：一基板，具有一第一表面
和相對於該第一表面的一第二表面；以及一膜，
具有一第三表面和相對於該第三表面的一第四表
面，其中該膜的該第三表面在該基板的該第一表
面上且該膜的該第四表面包含一結構，其中該結
構對應於複數個第一凸形狀和複數個第二凸形狀
的結合，其中該些第二凸形狀係疊加於該些第一
凸形狀上，其中該複數個第一凸形狀中的每一個
凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的另一邊
緣，其中，任兩個相鄰的該第一凸形狀互相重疊
，且該些第二凸形狀是由噴砂所形成。
請求項5：一種光學片材，包含：一基板，具有一第一表面
和相對於該第一表面的一第二表面；以及一膜，
具有一第三表面和相對於該第三表面的一第四表
面，其中該膜的該第三表面在該基板的該第一表
面上且該膜的該第四表面包含一結構，其中該結
構包含複數個凸形狀，其中該複數個凸形狀中的
每一個凸形狀未從該基板的一邊緣延伸至相對的
另一邊緣，其中任兩個相鄰的該凸形狀互相重疊
，其中該些凸形狀中各個該第一凸形狀整個所露
出的表面為粗糙的表面。
㈡本件專利申請案111年6月13日申請專利範圍修正本並未違反專利法第43條第2項之規定:
⒈本件專利申請案再審查歷程：
得不委任律師為訴訟代理人之情形 | 所需要件 |
（一）符合右列情形之一者，得不委任律師為訴訟代理人 | 1.上訴人或其法定代理人具備律師資格或為教育部審定合格之大學或獨立學院公法學教授、副教授者。 2.稅務行政事件，上訴人或其法定代理人具備會計師資格者。 3.專利行政事件，上訴人或其法定代理人具備專利師資格或依法得為專利代理人者。 |
（二）非律師具有右列情形之一，經最高行政法院認為適當者，亦得為上訴審訴訟代理人 | 1.上訴人之配偶、三親等內之血親、二親等內之姻親具備律師資格者。 2.稅務行政事件，具備會計師資格者。 3.專利行政事件，具備專利師資格或依法得為專利代理人者。 4.上訴人為公法人、中央或地方機關、公法上之非法人團體時，其所屬專任人員辦理法制、法務、訴願業務或與訴訟事件相關業務者。 |
是否符合（一）、（二）之情形，而得為強制律師代理之例外，上訴人應於提起上訴或委任時釋明之，並提出（二）所示關係之釋明文書影本及委任書。 | |
中 華 民 國 112 年 7 月 24 日
書記官 丘若瑤
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