智慧財產及商業法院行政-IPCA,112,行專再,2,20230908,1

112年度行專再字第2號

再 審原 告帝寶工業股份有限公司

代表人謝綉氣 

訴訟代理人李文賢專利師 住新北市板橋區民生路1段33號17樓

 之3

王文成律師

劉蘊文律師

再 審被 告經濟部智慧財產局

代表人廖承威 

參加人德商賓士集團股份有限公司

代表人Klaus Mannsperger、Florian Adt

訴訟代理人林怡芳律師

童啟哲專利師 住臺北市大安區仁愛路4段376號16

 樓之6

上列當事人間因設計專利舉發事件，再審原告對於中華民國111年1月27日最高行政法院108年度上字第903號判決，本於行政訴訟法第273條第1項第14款事由，提起再審之訴部分，經最高行政法院111年度再字第12號裁定移送前來，本院判決如下︰

一、再審之訴駁回。

二、再審訴訟費用由再審原告負擔。

一、本件再審被告代表人由洪淑敏變更為廖承威，參加人代表人由Christoph Vogt、Sven-Eric Widmayer變更為Klaus Mannsperger、Florian Adt，均據其現任代表人分別具狀聲明承受訴訟，核無不合，應予准許。

二、事實概要：參加人於民國97年4月23日以「車輛之頭燈」向再審被告申請新式樣專利（後更名為設計專利），經再審被告編為第97302370號審查後，於98年3月21日准予專利（下稱系爭專利）。再審原告於106年7月24日以系爭專利圖式違反核准時專利法（即93年7月1日施行之專利法，下稱93年專利法）第117條第2項、第3項及第118條第2項等規定，對之提起舉發，因再審被告認為此舉發案有辦理聽證之必要，於107年10月19日舉行聽證，並製作聽證紀錄。嗣再審被告以同年11月16日（107）智專三（一）03027字第10721072550號舉發審定書為舉發不成立之處分（下稱原處分）。再審原告不服，提起行政訴訟，訴請撤銷原處分，且命再審被告對系爭專利為舉發成立應予撤銷之處分。經本院108年度行專訴字第6號行政判決（下稱原一審判決）駁回其訴後提起上訴，經最高行政法院108年度上字第903號行政判決（下稱原二審判決，與原一審判決合稱原確定判決）駁回確定。再審原告對原確定判決提起再審之訴，最高行政法院依職權以111年度再字第12號裁定就關於行政訴訟法第273條第1項第14款事由部分移送本院。

三、再審原告主張：

　㈠原確定判決有行政訴訟法第273條第1項第14款事由如下：　

　⒈上證4「設計專利之圖式製作須知」之2.2.2「六面視圖的繪製」規定：「六面視圖係依正投影圖法，分別在前、後、左側、右側、俯、仰六個投影面，以同一比例所繪製之視圖」，已明確規定工程製圖方法之六面視圖係依正投影圖法之視圖。原一審判決割裂適用上證4前揭規定，不引用應適用之規定（2.1.1.3「照片的表現方式」），卻引用不適用之規定（2.2.1「立體圖的繪製」），原二審判決予以維持，構成就足以影響於判決之重要證物漏未斟酌之再審事由。

　⒉再審原告於行政訴訟上訴補充理由三狀第5至6頁引用康仕仲、張玉連合著「工程圖學：基礎篇」（西元2017年9月）第109至111頁佐證：工程製圖方法之六面視圖係依正投影圖法之視圖，原二審判決未予審酌，構成就足以影響於判決之重要證物漏未斟酌之再審事由。

　㈡聲明：原確定判決均廢棄，原處分撤銷。

四、再審被告答辯：　　

　　93年專利法第117條第3項規定「新式樣圖說之揭露方式，於本法施行細則定之」，係規範新式樣圖說之揭露方式應參考專利法施行細則之規定，而93年施行細則第33條第3項前段則規定「圖面應參照工程製圖方法，以墨線繪製或以照片或電腦列印之圖面清晰呈現」，系爭專利之圖面係以照片方式呈現，並參考工程製圖規定提交包含立體圖及六面視圖；又圖式製作須知中「2.圖式之揭露」包含「2.1圖式之揭露方式」、「2.2表現設計的基本視圖」等，原確定判決係斟酌「設計專利之圖式製作須知」之揭露規定，尚無再審原告所主張漏未審酌之情事。原處分並無違法，再審之訴應予駁回。

五、參加人則以：

　㈠再審原告指稱原一審判決割裂適用「設計專利之圖式製作須知」，引用不適當之規定（即2.2.1「立體圖的繪製」），而有重要證物漏未斟酌云云，實際上，該節係在「2.2表現設計的基本視圖」以下，涵蓋以照片、墨線圖及電腦繪圖等呈現方法，故原一審判決並無援引法條錯誤；再者，原一審判決顯然係有斟酌「設計專利之圖式製作須知」，並據以採用該製作須知中的2.2.1「立體圖的繪製」，再審原告在此僅是爭執原確定判決不採取其主張，而爭執認事用法違誤，並非是指出原確定判決有重要證據漏未審酌之情，再審原告之主張並無理由。

　㈡再審原告雖辯稱原二審判決未審酌其所引用之康仕仲、張玉連合著「工程圖學：基礎篇」內容云云，惟其內容僅提出例示性的各面視圖範例，縱經斟酌亦不足以對原確定判決所為視圖並非以正投影圖法製成者為限之認定產生影響，依最高行政法院108年度上字第783號行政判決意旨，原二審判決顯無就足以影響於判決之重要證物漏未斟酌之情事。原二審判決已就系爭專利之視圖進行審酌並且說明係所屬技藝領域中具有通常知識者能瞭解其內容，並可據以實施者，故顯然原二審判決已就視圖之呈現方式進行斟酌，並非再審原告所稱有重要證物漏未審酌，再審原告僅是再就原二審判決之證據取捨等權限，空言指稱有違法，實無可採。

　㈢再審原告之再審理由，係就已經原確定判決指駁不採者，再為指摘，或以其歧異之法律見解指摘原確定判決違法，而對於原確定判決究有如何合於行政訴訟法第273條第1項規定之具體情事，未據敘明，再審之訴不合法，應予駁回。

六、本院判斷：　　

　㈠行政訴訟法第273條第1項第14款所謂「原判決就足以影響於判決之重要證物漏未斟酌者」，係指當事人在前訴訟程序中已提出於事實審法院之證物，事實審法院漏未加以斟酌，且該證物為足以影響判決結果之重要證物而言；若非前訴訟程序事實審法院漏未斟酌其所提出之證物，或縱經斟酌亦不足以影響原判決之內容，或原判決曾於理由中已說明其為不必要之證據者，則均不能認為具備本款規定之再審事由（最高行政法院111年度上字第546號行政裁定意旨可資參照）。　

　㈡原確定判決就再審原告所舉證據業已審酌，並說明不可採之理由如下：　

　⒈原一審判決理由於⑴第32頁第9至25行記載：「系爭專利既已依專利法施行細則之規定『參照工程製圖方式』拍攝系爭專利之立體圖及六面視圖（即前視圖、後視圖、左側視圖、右側視圖、俯視圖、仰視圖）照片，縱因拍攝所產生的透視結果及誤差而使得六面視圖在投影尺寸或比例上無法完全對應一致，雖不是採用正投影，然該圖面已呈現系爭專利的各個視面及各項特徵，且所屬技藝領域中具有通常知識者觀看各該視圖即知悉係為以車燈實物拍攝之立體圖及六面視圖，應會知悉在以車燈實物拍攝視圖時，由於車燈實物為立體物，因擺設面向、位置之不同，加上攝影角度及光線之影響等因素，可能會使各面視圖比例未完全一致或有反光現象或有部分被遮隱，但仍得從全部視圖之相互比對整體觀察，瞭解系爭專利之整體外觀設計，並不致因上開誤差而對系爭專利的整體外觀設計產生誤解，而已足瞭解系爭專利之設計內容並可據以實施，並無不明確之情事，應符合93年專利法第117條第2、3項規定。原告稱系爭專利之六面視圖非正投影圖，內容不明確導致無從據以實施云云，應不可採」；⑵第37頁第6行至第38頁第8行記載：「原告指稱93年審查基準第三篇『新式樣實體審查』第一章圖說第1.5節規定：『施行細則所指之六面視圖，指依正投影圖法，分別在前、後、左、右、俯、仰六個投影面，以同一比例所繪製之圖面；無論是依第一角法或第三角法所繪製者，均屬之』云云。惟查，專利審查基準係被告機關辦理專利申請程序、專利要件審查之統一解釋法令、認定事實等，而訂頒之解釋性規定及裁量基準性質的行政規則。對於此一解釋性規定及裁量基準，其係基於行政自我拘束原則間接對外發生效力，本院為司法機關自得依據法律表示其確信合法的見解，不受專利審查基準之拘束（最高行政法院100年度判字第1490、2223號判決參照）。再者，立體圖是指一平面圖形表現三度空間立體設計之視圖，立體正投影、斜投影及透視投影為立體圖常見的繪製方式。立體正投影之繪圖原理，將物體從原來與前投影面平行之位置，沿與俯視投影面垂直之軸線作一角度α旋轉，再沿與側投影面垂直之軸線作一角度β之旋轉，而在前投影方向可見物體之三個主平面，於是形成之正投影圖，稱為立體正投影。隨著不同的旋轉角度投影，可產生不同的正投影繪製方式，如等角投影、二等角投影及不等角投影。申請人可依該申請專利之設計的特徵選擇最適合表現的投影方式。一般在繪製立體正投影視圖時，大都採用等角投影圖。斜投影主要是選擇一主要平面與投影面平行，並使平行投影線與投影面不成90度之表現，所得之投影稱為斜投影。透視投影是於觀察者與物體之間，設置一投影面，觀察者對物品各點投射之視線與投影面相交，所構成之圖形與觀察者眼中所見相同，稱為透視投影。透視投影較接近視覺的真實程度，但仍應視物品的實際大小，選擇較合適的透視投影繪製方法。即立體圖表現形式多種多樣，並不拘泥於正投影，使所屬技藝領域中具有通常知識在參照六面視圖及立體圖，能瞭解其內容，並可據以實現」。　

　⒉原二審判決理由於⑴第6頁第2至18行載明：「查系爭專利已依核准時專利法施行細則之規定『參照工程製圖方式』拍攝系爭專利之立體圖及六面視圖（即前視圖、後視圖、左側視圖、右側視圖、俯視圖、仰視圖）照片，已呈現系爭專利的各個視面及各項特徵，且所屬技藝領域中具有通常知識者觀看各該視圖即知悉係為以車燈實物拍攝之立體圖及六面視圖，應會知悉在以車燈實物拍攝視圖時，由於車燈實物為立體物，因擺設面向、位置之不同，加上攝影角度及光線之影響等因素，可能會使各面視圖比例未完全一致或有反光現象或有部分被遮隱，但仍得從全部視圖之相互比對整體觀察，瞭解系爭專利之整體外觀設計，並不致因上開誤差而對系爭專利的整體外觀設計產生誤解，而已足瞭解系爭專利之設計內容並可據以實施，並無不明確之情事，應符合核准時專利法第117條第2項及第3項規定等情，為原審依其調查證據之結果所確認，並於原判決詳述認定之依據及得心證之理由，經核與經驗法則、論理法則無違，並無所謂判決不適用法規、判決理由不備或理由矛盾之情形」；⑵第9頁第10至22行載明：「原判決引用設計專利之圖式製作須知內容，係針對上訴人爭執應以正投影圖繪製之不當，說明立體圖表現形式多種多樣，並不拘泥於正投影，闡釋申請專利時所拍攝照片之立體圖等投影視圖，並非單一標準之僵化規定。當事人既已於原審就工程製圖及其正投影製圖方法對照片及圖面所為之表達技巧等爭點，作成符合記載要件決定之相關事實進行辯論，其聽審權即已受到保障，原審依據上開辯論之結果作為裁判基礎，自無違反審理法第34條第1項準用第8條規定。故上訴意旨主張原判決第17至18頁記載擷取自被上訴人公布『設計專利之圖式製作須知』，原判決就上開特殊專業知識未經辯論即採為裁判之基礎，構成違反審理法第34條第1項準用第8條規定之違法，且有理由矛盾及理由不備之違法云云，委無可採」。　　

　㈢原一審判決及原二審判決已就再審原告依上證4「設計專利之圖式製作須知」節本及所引康仕仲、張玉連合著「工程圖學：基礎篇」內容（原二審卷第157至184頁、第418頁）主張應以正投影圖繪製之不當於判決理由說明如上，並無漏未斟酌情事，況上證4之「設計專利之圖式製作須知」為系爭專利核准後之106年訂立（參原二審卷第157頁），僅係便利申請人申請設計專利圖式之參考，無從拘束法院，系爭專利以照片作為新式樣圖面既然是93年專利法施行細則所接受的揭露形式，上證4「設計專利之圖式製作須知」所稱六面視圖指依正投影圖法所繪製之記載內容，或康仕仲、張玉連合著「工程圖學：基礎篇」之正投影圖繪製內容，均僅能認為是六面視圖之其中一種繪製方式而已，並非達成可據以實施的必要條件，自難據為有利再審原告之認定，再審原告前揭證據縱經再予斟酌亦不足以影響原確定判決內容，依前揭規定及說明，不能認為具備行政訴訟法第273條第1項第14款規定之再審事由。

七、綜上所述，再審原告主張原確定判決有行政訴訟法第273條第1項第14款之再審事由，並不可採，其提起本件再審之訴，顯無理由，爰不經言詞辯論，逕以判決駁回之。

八、據上論結，本件再審之訴為無理由，依110年12月8日修正公布之智慧財產案件審理法第1條，行政訴訟法第278條第2項、第98條第1項前段，判決如主文。　　　　

中　　華　　民　　國　　112 　年　　9 　　月　　8 　　日

　　智慧財產第一庭

　　審判長法官　蔡惠如　　　　

　　法官　吳俊龍　　　　

　　法官　陳端宜　　　　

以上正本係照原本作成。

一、如不服本判決，應於送達後20日內，向本院提出上訴狀並表明上訴理由，其未表明上訴理由者，應於提起上訴後20日內向本院補提上訴理由書；如於本判決宣示或公告後送達前提起上訴者，應於判決送達後20日內補提上訴理由書（均須按他造人數附繕本）。

二、上訴未表明上訴理由且未於前述20日內補提上訴理由書者，逕以裁定駁回。

三、上訴時應委任律師為訴訟代理人，並提出委任書（行政訴訟法第49條之1第1項第3款）。但符合下列情形者，得例外不委任律師為訴訟代理人（同條第3項、第4項）。　　

中　　華　　民　　國　　112 　年　　9 　　月　　8　　 日

書記官　吳祉瑩